快速退火爐是在半導體器件制造中使用的一種工藝，其包括加熱多個半導體晶片以影響其電性能。熱處理是針對不同的效果而設(shè)計的。可以加熱晶片以激活摻雜劑，將薄膜轉(zhuǎn)換成薄膜或?qū)⒈∧まD(zhuǎn)換成晶片襯底界面，使致密沉積的薄膜，改變生長的薄膜的狀態(tài)，修復注入的損傷，移動摻雜劑或?qū)诫s劑從一個薄膜轉(zhuǎn)移到另一個薄膜或從薄膜進入晶圓襯底。
 

　　今天小編給大家講講快速退火爐常見問題及其改進措施：
 

　　1、退火溫度是否達到規(guī)定溫度。光亮退火爐一般是采取固溶熱處理，也就是人們平常所謂的“退火”，溫度范圍為1040~1120℃。可以通過退火爐觀察孔觀察，退火區(qū)的不銹鋼管應為白熾狀態(tài)，但沒出現(xiàn)軟化下垂。
 

　　2、退火氣氛。一般都是采用純氫作為退火氣氛，氣氛純度好是99.99%以上，如果氣氛中另一部分是惰性氣體的話，純度也可以低一點，但是不能含有過多氧氣、水汽。
 

　　3、爐體密封性。光亮退火爐應是封閉的，與外界空氣隔絕;采用氫氣作保護氣的，只有一個排氣口是通的(用來點燃排出的氫氣)。檢查的方法可以用肥皂水抹在退火爐各個接頭縫隙處，看是否跑氣;其中容易跑氣的地方是退火爐進管子的地方和出管子的地方，這個地方的密封圈特別容易磨損，要經(jīng)常檢查經(jīng)常換。
 

　　4、保護氣壓力。為了防止出現(xiàn)微漏，爐內(nèi)保護氣應保持的正壓，如果是氫氣保護氣，一般要求20kBar以上。
 

　　5、爐內(nèi)水汽。一方面檢查爐體材料是否干燥，初次裝爐，爐體材料要烘干;二是進爐的不銹鋼管是否殘留過多水漬，特別管子上面如果有孔的話，千萬別漏水進去了，要不然就把爐子氣氛全破壞了。 如果沒有出現(xiàn)這幾類問題的話開爐后應該退20米左右的不銹鋼管就會開始發(fā)亮，是亮得反光的那種。